平面刻蝕是在兩塊平面電之間進行刻蝕，它與常見的感應耦合等離子體（ICP）不同，是通過高壓線圈產生的。我們的SCE系列鋁制反應艙等離子體系統是該領域新的產品。
　　無論是做研發階段還是量產階段，款SCE系統可以滿足用戶的需要。無論從設備設計質量還是經濟實用的角度考量，我們的等離子平面刻蝕機都具優勢。
　　SCEA1414鋁制艙等離子平面刻蝕機
　　1，可配三路氣體通路；
　　2，約45升艙體容積（14x14x14英寸）的反應艙；
　　3，可配四種不同等離子模式的四托架結構；
　　4，射頻功率為0-300瓦，13.56兆赫茲；
　　5，可選配　600瓦和1000瓦　13.56兆赫茲的功率源；
　　6，可選配低頻；
　　SCEA1818鋁制艙等離子平面刻蝕機
　　1，可提供四路氣體通道；
　　2，約96升艙體容積（18x18x18英寸）的反應艙體；
　　3，配有6托架結構，可支持初級或者下游等離子
　　4，可選配機械手樣品上裝置；
　　5，可選配生產線設置；
　　6，射頻功率為0-600瓦，13.56兆赫茲；
　　7，可選配1000瓦　13.56兆赫茲的功率源；
　　8，可選配低頻；
　　SCEQ0408石英艙等離子平面刻蝕機
　　1，可配三路氣體通路；
　　2，約1.6升艙體容積（4英寸直徑8英寸深度）的反應艙體；
　　3，標配射頻功率為0-150瓦手調，13.56兆赫茲；
　　4，可選配0-300瓦電調，13.56兆赫茲的功率源；
　　SCEQ0608石英艙等離子平面刻蝕機
　　1，可配三路氣體通路；
　　2，約3.7升艙體容積（6英寸直徑　8英寸深度）的反應艙體；
　　3，標配射頻功率為0-150瓦手調，13.56兆赫茲；
　　4，可選配0-300瓦電調，13.56兆赫茲的功率源；
　　SCEQ0808石英艙等離子平面刻蝕機
　　1，可配三路氣體通路；
　　2，約6.5升艙體容積（8英寸直徑8英寸深度）的反應艙體；
　　3，標配射頻功率為0-150瓦手調，13.56兆赫茲；
　　4，可選配0-300瓦電調，13.56兆赫茲的功率源；
　　石英艙系統可以配置，用于平面定向要非等向性和感應耦合等離子體（ICP）定向兩種模式的等離子體產生。
　　需要更詳細的等離子平面刻蝕機的信息，
　　
　　等離子刻蝕機商品信息
　　
　　邁可諾技術有限公司是一家致力于光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商，在中國大陸設有內地營銷服務中心，經銷歐美日韓品牌實驗室光電半導體化工儀器設備，附件，試劑耗材，對中國國內廣大客戶提供的產品咨詢和技術銷售服務。
　　公司名稱：邁可諾技術有限公司主營產品：勻膠機等離子清洗機旋涂儀　SLD/SLED　單色儀光譜儀公司成立年份：2008
　　等離子刻蝕機產品概況
　　
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