MYCRO提供美國原裝的單晶圓片和掩膜的清洗設(shè)備，均勻度高和國際水平的兆聲清洗解決方案。提供單晶片或者單片掩膜板的清洗，它通過控制聲波能量密度來對襯底表面進行壞的清洗。表面顆粒的去除可以調(diào)整化學(xué)試劑的配方成分，使得襯底表面存在少量的顆粒。化學(xué)配比系統(tǒng)設(shè)計了小的化學(xué)試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學(xué)試劑在襯底表面均勻的分布。這個設(shè)計也提供了的化學(xué)工藝時間的控制，控制聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
　　根據(jù)用戶的應(yīng)用需要，某些特定選項將有助于設(shè)備去除不想要的顆粒和雜質(zhì)。
　　具體應(yīng)用
　　清洗功能：
　　？晶圓片
　　？藍寶石外延片
　　？晶圓框架上的芯片
　　？顯示面板
　　？ITO膜顯示材料
　　？有圖形掩膜和無圖形掩膜
　　？掩膜坯料
　　？薄膜式掩膜
　　？接觸式掩膜
　　光刻處理工藝：
　　？SPM剝離
　　？光刻膠涂膜
　　？光刻膠剝離工藝
　　刻蝕：
　　？金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦）
　　白骨化清洗：
　　？在晶圓片上和雙氧水的混合液
　　？紅外加熱
　　？刷洗
　　？兆聲雙氧水清洗
　　？熱氮和甩干  產(chǎn)品特點：
　　？針對21英寸外徑或15x15英寸的基底
　　？聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水，清洗刷，熱去離子水，高壓去離子水，熱氮氣）
　　？化學(xué)臂
　　？帶化學(xué)的可變速清洗刷
　　？觸屏用戶界面
　　？手動上
　　？鎖和報警器
　　？占地尺寸30"D　x　26"W
　　可選配項：
　　？化學(xué)試劑傳送單元
　　？白骨化清洗
　　？臭氧發(fā)生器
　　？氫化雙氧水發(fā)生器
　　？高壓雙氧單元
　　？氫過氧化物
　　？紅外加熱
　　？雙氧水循環(huán)裝置
　　？機械手上單元
　　？帶EFEM和SMIF界面的集群系統(tǒng)