產(chǎn)品特點(diǎn)：
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.玻璃采用B270玻璃，厚度2.0mm，采用雙面拋光加工，高平行度，高光潔度；
2.采用鍍膜機(jī)鍍制作，雙面近50多層鍍膜，背面增加寬帶增透膜，減小反射光。電子＋離子輔助（Ion Assisted Deposition（IAD）鍍膜，膜層更致密，硬度高，低溫飄。
應(yīng)用領(lǐng)域：
廣泛應(yīng)用于CMOS芯片封裝，，手持紅外激光測(cè)距儀，四輪定位儀，光學(xué)儀器，健康設(shè)備及檢測(cè)儀器。
材料：B270
或者日本青板
CWL：850±8
FWHM：40±8
圓尺寸：Φ30*2.0
直徑公差：0/-0.1
厚度公差：±0.05
光潔度：80/50
Tpeak>90%
OD2 400-1200nm
主要用途：用于人臉識(shí)別，激光測(cè)距等
備注：部分可提供樣品測(cè)試！
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.玻璃采用B270玻璃，厚度2.0mm，采用雙面拋光加工，高平行度，高光潔度；
2.采用鍍膜機(jī)鍍制作，雙面近50多層鍍膜，背面增加寬帶增透膜，減小反射光。電子＋離子輔助（Ion Assisted Deposition（IAD）鍍膜，膜層更致密，硬度高，低溫飄。
應(yīng)用領(lǐng)域：
廣泛應(yīng)用于CMOS芯片封裝，，手持紅外激光測(cè)距儀，四輪定位儀，光學(xué)儀器，健康設(shè)備及檢測(cè)儀器。
材料：B270
或者日本青板
CWL：850±8
FWHM：40±8
圓尺寸：Φ30*2.0
直徑公差：0/-0.1
厚度公差：±0.05
光潔度：80/50
Tpeak>90%
OD2 400-1200nm
主要用途：用于人臉識(shí)別，激光測(cè)距等
備注：部分可提供樣品測(cè)試！
