AME-8100等離子體刻蝕機(jī)用于反應(yīng)離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對(duì)4"，5"或6"晶圓。
等離子體刻蝕機(jī)用于反應(yīng)離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對(duì)4"，5"或6"晶圓。
設(shè)備描述：
1、真空系統(tǒng)：愛德華干泵＋I(xiàn)冷凝泵＋LEYBOLD分子泵
2、真空檢測(cè)：TC guage＋I(xiàn)ON gauge＋MKS薄膜壓力規(guī)
3、過程檢測(cè)：激光薄膜厚度檢測(cè)
4、工作氣體：5路工作氣體＋環(huán)行布?xì)庀到y(tǒng)
5、工件尺寸：4寸-6寸，可改進(jìn)到更大尺寸。如4寸，可裝載24片
6、工作電源：射頻功率源＋匹配箱
7、控制系統(tǒng)：全自動(dòng)工藝流程，高集成控制系統(tǒng)
8、保護(hù)：考慮因素，人性話設(shè)計(jì)。
等離子體刻蝕機(jī)用于反應(yīng)離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對(duì)4"，5"或6"晶圓。
設(shè)備描述：
1、真空系統(tǒng)：愛德華干泵＋I(xiàn)冷凝泵＋LEYBOLD分子泵
2、真空檢測(cè)：TC guage＋I(xiàn)ON gauge＋MKS薄膜壓力規(guī)
3、過程檢測(cè)：激光薄膜厚度檢測(cè)
4、工作氣體：5路工作氣體＋環(huán)行布?xì)庀到y(tǒng)
5、工件尺寸：4寸-6寸，可改進(jìn)到更大尺寸。如4寸，可裝載24片
6、工作電源：射頻功率源＋匹配箱
7、控制系統(tǒng)：全自動(dòng)工藝流程，高集成控制系統(tǒng)
8、保護(hù)：考慮因素，人性話設(shè)計(jì)。
